英雄饮水要忘(2)先进电子和光子材料与器件。
道｜e）FeNC-CVD-750在0.9V（iR校正）和0.8V（iR校正）下的H2-O2 PEMFC活性与文献值的比较。SDmass与Fe含量和总利用率U的乘积成正比，思源其中U=UFe ×UFeN4。
革烈【图文导读】图1合成ZIF-8和ZIF-8衍生的Zn-N-C底物的表征a）ZIF-8的透射电子显微镜(TEM)图像。命先这一目标目前面临两个挑战。我们定义了两个利用率次级因素，英雄饮水要忘UFe和UFeN4，英雄饮水要忘前者是Fe-N4分子的数量与催化剂中Fe原子总数的比率，后者是电化学上可利用的Fe-N4分子与所有Fe-N4分子的比率。
道｜f）在H2-O2极化曲线后获得的MEA的H2-空气PEMFC极化曲线和没有iR校正的功率密度。思源χ(R)是R空间中的傅立叶变换。
革烈橙色实线代表N与金属键合（M-Nx）。
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